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氧化銅檢測(cè)

原創(chuàng)發(fā)布者:北檢院    發(fā)布時(shí)間:2025-04-12     點(diǎn)擊數(shù):

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注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試望見諒。

氧化銅檢測(cè)實(shí)驗(yàn)報(bào)告

檢測(cè)樣品

本次實(shí)驗(yàn)的檢測(cè)樣品為工業(yè)生產(chǎn)中常見的氧化銅(CuO)粉末,樣品來(lái)源于某金屬冶煉廠提供的批次號(hào)為CuO-202310的原料。樣品外觀呈黑色粉末狀,無(wú)明顯雜質(zhì)顆粒,初始質(zhì)量為50克。

檢測(cè)項(xiàng)目

  1. 氧化銅純度分析:測(cè)定樣品中CuO的質(zhì)量百分比含量。
  2. 雜質(zhì)成分檢測(cè):分析樣品中可能存在的金屬雜質(zhì)(如Fe、Zn、Pb等)。
  3. 物理性質(zhì)測(cè)試:包括粒徑分布、比表面積及堆積密度。

檢測(cè)方法

  1. 化學(xué)分析法

    • 酸溶解法:將氧化銅樣品溶解于稀鹽酸中,通過(guò)滴定法測(cè)定Cu²?含量,計(jì)算純度。
    • 原子吸收光譜法(AAS):檢測(cè)溶解液中金屬雜質(zhì)離子的濃度。
  2. X射線衍射(XRD)

    • 使用X射線衍射儀分析樣品晶體結(jié)構(gòu),確認(rèn)是否為單一CuO相,排除其他氧化物的干擾。
  3. 激光粒度分析

    • 通過(guò)馬爾文激光粒度儀測(cè)定粉末的粒徑分布及比表面積。

檢測(cè)儀器

  1. 電子分析天平(型號(hào):ME204E):用于精確稱量樣品質(zhì)量,精度達(dá)0.1毫克。
  2. 原子吸收光譜儀(型號(hào):AA-6880):檢測(cè)金屬雜質(zhì)元素含量。
  3. X射線衍射儀(型號(hào):X&39;Pert³ Powder):分析樣品晶體結(jié)構(gòu)。
  4. 激光粒度分析儀(型號(hào):Mastersizer 3000):測(cè)定粉末粒徑及比表面積。
  5. 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP-OES)(型號(hào):iCAP 7600):輔助驗(yàn)證雜質(zhì)成分。

實(shí)驗(yàn)結(jié)果與結(jié)論

  1. 純度分析:樣品中CuO含量為98.7%,符合工業(yè)一級(jí)品標(biāo)準(zhǔn)(≥98%)。
  2. 雜質(zhì)檢測(cè):檢測(cè)到微量Fe(0.05%)和Zn(0.03%),未檢出Pb,符合環(huán)保要求。
  3. 物理性質(zhì):平均粒徑為15微米,比表面積為25 m²/g,堆積密度為1.2 g/cm³。

實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,該批次氧化銅樣品純度較高,雜質(zhì)含量低,物理性質(zhì)滿足工業(yè)生產(chǎn)需求,可應(yīng)用于電子元件及催化劑制造領(lǐng)域。

關(guān)鍵詞:氧化銅檢測(cè)、純度分析、X射線衍射、原子吸收光譜


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實(shí)驗(yàn)儀器

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測(cè)試流程

氧化銅檢測(cè)流程

注意事項(xiàng)

1.具體的試驗(yàn)周期以工程師告知的為準(zhǔn)。

2.文章中的圖片或者標(biāo)準(zhǔn)以及具體的試驗(yàn)方案僅供參考,因?yàn)槊總€(gè)樣品和項(xiàng)目都有所不同,所以最終以工程師告知的為準(zhǔn)。

3.關(guān)于(樣品量)的需求,最好是先咨詢我們的工程師確定,避免不必要的樣品損失。

4.加急試驗(yàn)周期一般是五個(gè)工作日左右,部分樣品有所差異

5.如果對(duì)于(氧化銅檢測(cè))還有什么疑問(wèn),可以咨詢我們的工程師為您一一解答。

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