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注意:因業(yè)務(wù)調(diào)整,暫不接受個(gè)人委托測(cè)試望見(jiàn)諒。
X射線熒光強(qiáng)度基質(zhì)校正(ZAF法)是一種用于精確測(cè)定材料中元素含量的分析技術(shù),通過(guò)校正基質(zhì)效應(yīng)(原子序數(shù)效應(yīng)Z、吸收效應(yīng)A和熒光效應(yīng)F)提高檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性。該方法廣泛應(yīng)用于金屬、礦石、陶瓷、玻璃等材料的成分分析,確保產(chǎn)品質(zhì)量、工藝控制及合規(guī)性。檢測(cè)的重要性在于其非破壞性、高精度和快速分析能力,為工業(yè)生產(chǎn)、科研及質(zhì)量控制提供可靠數(shù)據(jù)支持。
元素含量分析, 氧化物含量測(cè)定, 重金屬檢測(cè), 痕量元素分析, 硫含量檢測(cè), 氯含量檢測(cè), 硅含量測(cè)定, 鋁含量分析, 鐵含量測(cè)定, 鈣含量檢測(cè), 鎂含量分析, 鉀含量測(cè)定, 鈉含量檢測(cè), 鈦含量分析, 錳含量測(cè)定, 銅含量檢測(cè), 鋅含量分析, 鉛含量測(cè)定, 鎳含量檢測(cè), 鉻含量分析
金屬合金, 礦石樣品, 陶瓷材料, 玻璃制品, 水泥, 耐火材料, 土壤, 沉積物, 涂料, 塑料, 橡膠, 電子產(chǎn)品, 電池材料, 催化劑, 廢料, 礦物粉末, 鋼鐵, 鋁合金, 銅合金, 鈦合金
X射線熒光光譜法(XRF):通過(guò)測(cè)量樣品受激發(fā)后發(fā)射的特征X射線進(jìn)行元素分析。
波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜法(WDXRF):利用分光晶體分離不同波長(zhǎng)的X射線,提高分辨率。
能量色散X射線熒光光譜法(EDXRF):通過(guò)探測(cè)器直接測(cè)量X射線能量,實(shí)現(xiàn)快速分析。
熔融法制樣:將樣品與熔劑混合熔融,消除粒度效應(yīng)和礦物效應(yīng)。
壓片法制樣:將粉末樣品壓制成片,適用于松散或粉末狀材料。
薄樣法:制備超薄樣品以減少基質(zhì)效應(yīng)。
標(biāo)準(zhǔn)加入法:通過(guò)添加已知量標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)進(jìn)行定量分析。
內(nèi)標(biāo)法:在樣品中加入內(nèi)標(biāo)元素校正儀器波動(dòng)。
半定量分析:通過(guò)對(duì)比標(biāo)準(zhǔn)譜庫(kù)快速估算元素含量。
定量分析:基于校準(zhǔn)曲線精確測(cè)定元素濃度。
無(wú)標(biāo)樣分析:利用基本參數(shù)法(FP法)計(jì)算元素含量。
微區(qū)分析:通過(guò)聚焦X射線束分析微小區(qū)域成分。
薄膜分析:測(cè)定薄膜厚度及組成。
鍍層分析:測(cè)量鍍層厚度及元素分布。
在線分析:實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)生產(chǎn)過(guò)程中的成分變化。
波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀, 能量色散X射線熒光光譜儀, 臺(tái)式XRF分析儀, 手持式XRF分析儀, 微區(qū)XRF分析儀, 同步輻射XRF設(shè)備, 多道X射線熒光光譜儀, 單道X射線熒光光譜儀, 高分辨率XRF光譜儀, 便攜式XRF分析儀, 真空XRF光譜儀, 氦氣氛圍XRF光譜儀, 自動(dòng)進(jìn)樣X(jué)RF系統(tǒng), 三維XRF成像系統(tǒng), 偏振X射線熒光光譜儀
北檢院實(shí)驗(yàn)室百余臺(tái)大型試驗(yàn)儀器,適用于各種材料的樣品,并且還有非標(biāo)試驗(yàn)的工裝定制服務(wù)。
實(shí)驗(yàn)室工程師有著豐富的測(cè)試經(jīng)驗(yàn),無(wú)論是常規(guī)樣品還是科研樣品,都有定制化試驗(yàn)方案。
服務(wù)覆蓋領(lǐng)域廣,主要包括:材料,能源,性能測(cè)試,醫(yī)藥領(lǐng)域,生物,動(dòng)物,植物等科研項(xiàng)目領(lǐng)域。
我們提供強(qiáng)大的后期技術(shù)支持,如果您對(duì)于報(bào)告有疑問(wèn)或者對(duì)于試驗(yàn)有疑問(wèn),我們可以為您提供完善的解答服務(wù)。
1.具體的試驗(yàn)周期以工程師告知的為準(zhǔn)。
2.文章中的圖片或者標(biāo)準(zhǔn)以及具體的試驗(yàn)方案僅供參考,因?yàn)槊總€(gè)樣品和項(xiàng)目都有所不同,所以最終以工程師告知的為準(zhǔn)。
3.關(guān)于(樣品量)的需求,最好是先咨詢我們的工程師確定,避免不必要的樣品損失。
4.加急試驗(yàn)周期一般是五個(gè)工作日左右,部分樣品有所差異
5.如果對(duì)于(X射線熒光強(qiáng)度基質(zhì)校正(ZAF法))還有什么疑問(wèn),可以咨詢我們的工程師為您一一解答。
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