注意:因業(yè)務調整,暫不接受個人委托測試望見諒。
電子背散射衍射(EBSD)檢測是一種基于掃描電子顯微鏡的微區(qū)晶體學分析技術,通過采集樣品表面背散射電子的衍射信號,實現對材料晶體結構、取向、相組成等信息的精準表征。該技術廣泛應用于金屬、陶瓷、半導體、地質樣品等領域的質量評估與工藝優(yōu)化。檢測的重要性在于其能夠揭示材料的微觀組織特征,如晶粒尺寸、織構、殘余應力等,為材料研發(fā)、失效分析及工業(yè)生產的質量控制提供關鍵數據支持。
晶體取向分析,晶界類型與分布,相鑒定與含量統(tǒng)計,晶粒尺寸分布,織構分析,應變分布測量,亞晶結構表征,殘余應力評估,位錯密度計算,孿晶界面分析,晶體學缺陷識別,顯微組織均勻性,取向差角分布,動態(tài)再結晶行為,熱影響區(qū)表征,腐蝕產物相分析,多相材料界面兼容性,晶體擇優(yōu)取向統(tǒng)計,納米晶材料取向分布,變形機制定量分析。
金屬及合金,陶瓷材料,半導體器件,地質礦物,薄膜涂層,復合材料,焊接接頭,3D打印材料,高溫合金,納米材料,單晶材料,多晶材料,生物材料,電子封裝材料,粉末冶金制品,腐蝕產物,化石樣品,超導材料,磁性材料,光伏材料。
EBSD面掃描分析(通過逐點采集衍射花樣生成取向分布圖),極圖與反極圖計算(統(tǒng)計晶體取向的宏觀分布),取向成像顯微術(OIM)重構晶界網絡,菊池線擬合(標定晶體結構與取向),動態(tài)衍射模擬(驗證復雜結構的匹配度),應變場映射(結合DIC技術量化局部變形),相分離算法(區(qū)分多相材料的晶體學差異),織構強度計算(統(tǒng)計擇優(yōu)取向程度),晶粒重構分析(分割相鄰晶粒并統(tǒng)計尺寸分布),晶界特性分類(基于取向差角與界面平面),三維EBSD層析(結合連續(xù)切片重建三維結構),原位加熱/變形EBSD(動態(tài)觀察組織演變),高速采集模式(提升大面積掃描效率),低電壓EBSD(降低束流損傷敏感樣品),統(tǒng)計置信度評估(優(yōu)化數據采集參數)。
場發(fā)射掃描電子顯微鏡,EBSD探測器,能譜儀(EDS),電子束曝光系統(tǒng),樣品傾斜臺,高溫樣品臺,拉伸臺,低溫冷卻裝置,真空鍍膜機,離子束拋光儀,自動樣品傳輸系統(tǒng),高靈敏度CCD相機,菊池線標定軟件,三維重構工作站,原位力學加載模塊。
1.具體的試驗周期以工程師告知的為準。
2.文章中的圖片或者標準以及具體的試驗方案僅供參考,因為每個樣品和項目都有所不同,所以最終以工程師告知的為準。
3.關于(樣品量)的需求,最好是先咨詢我們的工程師確定,避免不必要的樣品損失。
4.加急試驗周期一般是五個工作日左右,部分樣品有所差異
5.如果對于(電子背散射衍射檢測)還有什么疑問,可以咨詢我們的工程師為您一一解答。
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